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Accelrys Materials Studio v6.0 材料科學模擬軟件 英文DVD版

商品編號:Ms0095
本站售價:NT$80
碟片片數:1
瀏覽次數:
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軟體名稱: Accelrys Materials Studio v6.0 材料科學模擬軟件
語系版本: 英文DVD版
光碟片數: 1片裝
保護種類: 破解檔
破解說明: 將 crack 目錄下的檔案複製到安裝目錄下執行
系統支援: Windows XP/Vista/7
軟體類型: 材料科學模擬軟件
更新日期: 2012.10.05
官方網站: http://159tw.com
中文網站: http://159tw.com
軟體簡介: (以官方網站為準)
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軟體介紹:

Materials Studio6.0 是Materials Studio 軟體的最新版本。作為全球最大的分
子類比軟體提供商Accelrys 公司關於材料行為模擬及性質計算的唯一工具軟體—
—Materials Studio 集成了目前分子模擬領域的各種先進方法和優異的建模及視
覺化分析工具。基於最新的6.0版本,研究人員可以更好地對幾乎所有種類的材料
進行模擬,包括藥物、催化劑、聚合物和複合材料、金屬和合金、 電池和燃料電
池,納米材料等等。

Materials Studio6.0中引入了豐富的新功能,這些功能可以幫助研究人員更好地
預測材料性能,並對各種材料體系進行虛擬篩選實驗。

MS6.0的主要優越性:
‧ 更快、更準確地預測金屬、有機物、稀土和磁性材料的性質;
‧ 能夠預測各種鹽類、晶體、高分子材料、金屬氧化物、電子及半導體材料的更多

性能參數;
‧ 增強的圖形性能帶來的更好的用戶體驗;
‧ 腳本工具改進所帶來的重複工作流程的簡化;
‧ 引入了全新的DFTB+模組,它兼具量子力學方法的準確性和經驗方法的高效性,
可以研究更大且更接近于真實的分子體系。

Big Impact with “Small” Science
☆ DFTB+模組使得大尺度納米材料體系的研究實現前所未有的提速;
☆ B3LYP 將使得分子體系的研究更加準確;
☆ 分子體系的拉曼光譜計算將會因為DMol3的新功能而更加快捷;
☆ 新的控溫函數NHL將會使得動力學類比中的溫度更快達到平衡。

MS6.0各模組的新特性
量子力學模組
DFTB+
基於密度泛函的緊束縛方法: 融合了量子力學計算的準確性和半經驗方法的高效性,
從而可以模擬更大的體系,例如:納米團簇、顆粒等;
功能:單點能計算、結構優化和分子動力學計算;
參數: 已有的參數包括CH、CHNO以及SiGeH,對於其他體系的未知參數,DFTB+ 包含
一個參數化工具,幫助使用者生成新的參數;
電子性能:可計算能帶結構、電子態密度、電子密度或者分子軌道。
CASTEP
Linear response:擴展至金屬體系的計算。可以準確地計算金屬的振動性質,改進
對金屬相轉變、中子衍射和非彈性X-ray衍射的類比;
精度提高:優化過的OTFG贗勢提高了對稀土材料體系的模擬精度;
LDA+U和有限位移法:LDA+U的方法擴展至聲子的計算,新版本中, 將可以和有限位
移法結合,改善強關聯磁性材料振動性能的預測。
DMol3
B3LYP: 新的交換相關函數,提高了分子體系的模擬精度;
Raman光譜: 對分子的拉曼光譜進行預測,可用於分子結構的分析和篩選;
TD-DFT: 擴展了對開殼層體系UV-vis光譜,非線性光學性質的預測;
Dipole correction: 改善層狀結構的相關計算,特別是表面吸附、非均相催化的計
算精度;
BSSE(basis set superposition error): 允許使用者進行BSSE修正,提高對弱相互
作用的模擬精度。
ONETEP
電場: 可以考慮電場對於材料體系的影響;
色散修正:添加了色散修正, 提高了對蛋白質和分子晶體等有機體系的能量和結構
計算的精度。
LDA+U: 添加了LDA+U選項,改善對強關聯體系的研究。
BLYP&XLYP: 新的交換相關函數BLYP以及XLYP。
Qmera(量子力學/分子力學雜化方法)
TD-DFT: 允許基於TD-DFT對體系中的量子力學區域進行UV-vis光譜及非線性光學性質預測;
Dynamic: 動力學功能向普通用戶開放;
B3LYP: 量子力學部分增加兩個新的交換相關函數,參見DMol3部分的介紹。
分子力學及動力學模組
Forcite Plus模組
PCFF&CVFF: 支援對CVFF和PCFF力場的編輯;
Shearing:允許模擬塊體的剪切,得到體系的剪切粘度;
NHL: 增加了新的控溫函數Nose-Hoover-Langevin(NHL),它具有比Nose方法更快的收
斂速度,更好的溫度穩定性;
Parinello: 增加了新的控壓函數Parinello;
軌跡文件:允許使用者通過perl腳本控制軌跡檔的輸出。可以只輸出部分原子的資料,
或者僅僅輸出密度等某一性質的資料,再或者將資料寫入到*.tbl文件中。
Amorphous Cell
Confined layer: 添加Ramp density選項,使其能夠構建semi-rigid聚合物的confined
layer模型。
GULP
Dynamic:增加了新的系綜NPH,引入了新的積分方法stochastic,提升了動力學的穩定性;
ReaxFF 6.0: 增加了反應力場ReaxFF6.0,將適用體系擴展至C、H、O、N、S、Si、Na、
Fe、Cl、Ni、Zr、Y、Ba、Cu、Zn以及Au;
電場: 電場功能擴展至三維週期性結構。
介觀動力學模組
Mesocite
Shearing: 允許模擬塊體的剪切,得到體系的剪切粘度;
Forcefield Manager: 在力場編輯功能中引入新的函數形式;
NHL: 增加了新的控溫函數Nose-Hoover-Langevin(NHL),它具有比Nose方法更快的收斂
速度,更好的溫度穩定性;
Parinello: 增加了新的控壓函數Parinello;
軌跡文件: 允許使用者通過perl 腳本控制軌跡檔的輸出。可以只輸出部分原子的資料,
或者僅僅輸出密度等某一性質的資料,再或者將資料寫入到*.tbl 文件中。
Visualization模組
Visualizer
Perl script的啟動,編輯以及共用:在Visualizer功能表欄中增加User選項, 使用者
可以方便的將自己的script添加到User中,從而簡化script任務的運行。此外,Visualizer
中還建立了script library,方便script的編輯,管理和共用;
MaterialsScript API: Reflex Plus, Sorption, Adsorption Locator,介觀模型搭建
以及帶電單元、分子的構建都將支持Perl script;
CPK: Visualizer提高了對於大體系結構使用CPK方式顯示的質量。
儀器資料分析模組
Reflex Plus
Powder Solve: 添加了對motion group間距離和角度的約束,有效提高結構搜尋的效率。
獲取更多關於 Materials Studio的資訊,請進入www.accelrys.com/materials-studio



美國Accelrys公司的前身為四家世界領先的科學軟體公司──美國Molecular Simulations
Inc.(MSI)公司、Genetics Computer Group(GCG)公司、英國Synopsys Scient ific系統
公司以及Oxford Molecular Group(OMG)公司,由這四家軟體公司於2001年6月1日合併組
建的Accelrys公司,是目前全球範圍內唯一能夠提供分子類比 、材料設計以及化學資訊
學和生物資訊學全面解決方案和相關服務的軟體供應商。
Accelrys材料科學軟體產品提供了全面完善的模擬環境,可以幫助研究者構建、 顯示和
分析分子、固體及表面的結構模型,並研究、預測材料的相關性質。Accelrys 的軟體是
高度模組化的集成產品,用戶可以自由定制、購買自己的軟體系統, 以滿足研究工作的
不同需要。Accelrys軟體用於材料科學研究的主要產品包括運行於UNIX 工作站系統上的
Cerius2軟體,以及全新開發的基於PC平臺的Materials Studio軟體。Accelrys材料科學
軟體被廣泛應用於石化、化工、制藥、食品、石油、電子、 汽車和航空航太等工業及教
育研究部門 ,在上述領域中具有較大影響的世界各主要跨國公司及著名研究機構幾乎都
是Accelrys產品的用戶。


Materials Studio是專門為材料科學領域研究者開發的一款可運行在PC上的類比軟體。
它可以幫助你解決當今化學、材料工業中的一系列重要問題。支持Windows 98、2000、
NT、Unix以及Linux等多種操作平臺的Materials Studio使化學及材料科學的研究者們能
更方便地建立三維結構模型,並對各種晶體、 無定型以及高分子材料的性質及相關過程
進行深入的研究。
多種先進演算法的綜合應用使Materials Studio成為一個強有力的模擬工具。 無論構型
優化、性質預測和X射線衍射分析,以及複雜的動力學模擬和量子力學計算,我們都可以
通過一些簡單易學的操作來得到切實可靠的資料。
Materials Studio軟體採用靈活的Client-Server結構。其核心模組Visualizer運行於用
戶端PC,支援的作業系統包括Windows 98、2000、NT;計算模組(如Discover,Amorphous,
Equilibria,DMol3,CASTEP等)運行於伺服器端,支援的系統包括Windows2000、NT、
SGIIRIX以及Red Hat Linux。浮動許可(Floating License)機制允許用戶將計算作業
提交到網路上的任何一台伺服器上,並將結果返回到用戶端進行分析,從而最大限度地
利用了網路資源。
任何一個研究者,無論是否是電腦方面的專家,都能充分享用Materials Studio軟體所
帶來的先進技術。Materials Studio生成的結構、圖表及視頻片斷等資料可以及時地與
其他PC軟體共用,方便與其他同事交流,並能使你的講演和報告更加引人入勝。
Materials Studio軟體能使任何研究者達到與世界一流研究部門相一致的材料模擬的能
力。類比的內容包括了催化劑、聚合物、固體及表面、晶體與衍射、化學反應等材料和
化學研究領域的主要課題。

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